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【消息】晶圆厂买单45纳米制程设备销售增温

发布时间:2020-11-17 10:48:33 阅读: 来源:全毛厂家

为迎接45纳米制程世代,除了英特尔(Intel)计划于2007年投产,劲敌超微(AMD)也规划与IBM最快在2008年中投产45纳米制程芯片,加上台积电、联电、新加坡特许半导体(Chartered Semiconductor)皆将于2007年下半启动量产列车,使得45纳米制程设备近期市场热度有升温迹象,包括知名设备商应用材料(Applied Materials)、荷商ASML皆打铁趁热推出新产品,尽管所费不赀,然晶圆厂恐怕顾不了荷包失血、只能买单。   ASML日前宣布,接获超微及IBM合作45纳米制程的设备订单,最快超微及IBM双方合作的45纳米制程芯片,2008年中便可问世,紧追劲敌英特尔之后;ASML目前浸润式显影设备客户还包括南亚科、华亚科、IM Flash、三星电子(Samsung Electronics)及台积电,光是台积电早期便与ASML携手合作开发浸润式显影技术,厂房中几乎每代机种一应俱全,投资先进制程不惜大手笔。   除了英特尔、超微等微处理器业者,晶圆代工业者台积电、联电皆预计2007年下半开启45纳米制程量产列车,特许也新增45纳米制程,可望在技术伙伴IBM及大客户超微顺利量产后,以产能支持,随着各个晶圆厂纷纷在45纳米制程磨刀霍霍,设备商也藉机于近日的日本半导体设备展期间纷纷推出新一代产品。   应材便宣布,推出业界最快、最具成本效益的化学气相沉积(CVD)平台Producer GT系统,新作业平台每小时约能处理150片晶圆,相当现有竞争系统的2倍效能;应资深副总裁暨薄膜产品事业群总经理Farhad Moghadam表示,这套新平台将可以提供客户处理45纳米及以下的各项制程应用,并且再减少30%机械性微粒,大幅提高生产力。   而ASML除了浸润式显影机种大热卖,也持续强化在干式微显影机种的效能,日前便宣布其193纳米干式机种XT 1450将支持双重曝光技术,以往XT 1450在镜头效能控制下锁定60~57纳米制程市场,如今支持双重曝光技术将使其可延伸应用至32纳米制程;ASML表示,由于双重曝光技术将延伸更细微的半导体制程寿命,将成为193纳米机种过渡至深紫外光(EUV)机种之间的桥梁。

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